Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Knjige - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - 17. februarja 2014
Če se naslovnica in naslov ne ujemata, je naslov pravilen

Seiji Samukawa
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Cena
€ 50,49

Naročeno iz oddaljenega skladišča

Predvidena dobava 15. - 23. okt
Prejemajte obvestila o novih izdajah izvajalca Seiji Samukawa

Kaj pravijo naše stranke:

14-dnevna politika vračila v skladu z evropsko zakonodajo o varstvu potrošnikov
Najvišja ocena na Trustpilot
Dodaj na svoj seznam želja iMusic

Not rated yet

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Medij Knjige     Paperback Book   (Knjiga z mehkimi platnicami in lepljenim hrbtom)
Izdano 17. februarja 2014
ISBN13 9784431547945
Založniki Springer Verlag, Japan
Strani 40
Dimenzije 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Jezik Angleščina  

Več od istega **izdajatelja**

Ogled vseh Seiji Samukawa